真空镀膜设备我们可能见到的有很多，如真空镀膜机等等，这里为大家介绍一种概述电磁屏蔽膜专用真空镀膜设备，具体如下：

电磁屏蔽膜专用真空镀膜设备是在手机、笔记本电脑、电话机、DVD等电子产品塑胶外壳表面上镀制电磁屏蔽（EMI）薄膜的专用设备。该设备利用等离子体表面处理技术，并采用真空蒸发和磁控溅射镀膜工艺相结合，以真空蒸发镀Ag、Cu，以磁控溅射镀Ni/Cr不锈钢，可实现不同电阻要求的EMI镀膜。

电磁屏蔽（EMI）膜专用真空镀膜设备特点及基本参数：

1.有卧式、立式结构，可实现单面同时镀膜；

2.生产效率,快速度达1分钟/节拍；

3.模组化设，维护方便；

4.镀膜工艺成熟，成品率高；

5.直流磁控溅射阴极可随客户要求选择；

6.真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵组成；

7.大尺寸；2200mm*1200mm(长*宽)；

8.小尺寸；500mm*400mm(长*宽)。

真空卷绕镀膜机

的卷绕系统采用四电机驱动，恒张力控制，可实现距离卷绕和接触卷绕两种卷绕方式。提供了多种不同的卷绕方式，以适用于所镀制的薄膜种类和工艺要求。在卷绕系统中设置了适用于CPP、PET、OPP等多种塑料薄膜特殊的展平装置，能达到无褶皱、无划伤、无边缘积聚的优良蒸镀和收卷质量。强劲实用的抽真空系统相对独立的卷绕室和蒸发室，每一个室都有一套独立的真空泵组与其对应。能在很短的时间内达到镀膜所需的工作真空度，使设备的生产率得到很大地提高。蒸发源系统通过严密的计算采取恰当的蒸发距离和舟间距，采取交错安装的排布形式，使用两端顶持的舟安装方式保证了良好的蒸镀均匀性的成膜质量。可以使用普通蒸发速率的陶瓷蒸发舟，也可以使用高蒸发率的蒸发舟。其功率可达14KVA，蒸发速率可达9克/分钟。冷却加热系统：蒸镀辊配制有独立的冷却加热系统，采用特殊的油导热介质，能有效的冷却蒸镀辊，防止薄膜热损伤。等离子预处理装置：在镀前对薄膜表面进行离子轰击处理，除去薄膜表面吸附的水气及杂质，提高附着力，改善镀膜质量。简单便捷的控制系统：便捷的全自动控制系统和友好的操作界面，可根据需要分别采用手动、半自动以及自动方式。

化学镀膜和物理PVD镀膜间的关系

谈到化学镀膜和物理PVD镀膜间的关系，从本质上说这两种镀膜方式只是工艺上的不同，也是技术的发展，对此，从镀膜整体行业来讲是极有好处的，有利于生态圈的发展。 国内不少厂家随着运营所暴露出来的一些差距和问题，譬如产品研发能力、人才问题、技术创新以及管理机制等等，研发生产镀膜设备需要大量的资金投入，如果缺少资金运作研发能力就不会强，如果没有成熟的工艺和技术某些情况下可能出现设备不稳定。 国内镀膜设备整体上相对发达国家有一定差距，真空镀膜机技术工艺水平也很难在短时间内追赶上，充足资金，能够吸引更多专业人才，从基本上解决才可以改变整体现状。