引起镀膜玻璃膜层不均匀原因多方面

二次污染造成的洗净的玻璃在镀膜前需经过加热，抽真空和溅射等过程，而使玻璃再次污染，从而使玻璃镀膜后产生。玻璃加热过程中再污染是加热室或溅射室不干净，而对玻璃再污染，这些污染源主要来源于扩散泵返油、加热室或溅射室内脏、靶玻璃材溅射产生靶灰，残余气体压强高等诸多方面。因为一般的固体物质，每单位表面积上的分子数大约为10个左右，在常Pa的压强下，每秒钟撞表面的分子数大体上相当于覆盖物质积的分子数。在残余气体压强为10的情况下，假如以每秒一层原子左右的形成速度进行镀膜时，则蒸发的原子和残余气体的分子几乎是以相同的几率碰撞基片。在溅射过程中在充入气时压强为10～10时所形成膜的速度和蒸发条件下基本相同。

高真空蒸发镀膜设备有哪些特点

真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

高真空蒸发镀膜设备具有结构合理、抽速大、工作周期短、生产、操作方便，能耗低、工作稳定，且膜层均匀、成膜质量好等优点。该设备主要广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。

可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龙、玻璃、陶瓷、金属等。

可镀基材表面状态：电镀亮面、哑光面（半哑、全哑）、工艺电镀、拉丝、雨滴等；镀制颜色有：金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等。可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

镀膜理论

镀膜控制穿过光学干涉机制的反射光和透射光。当两个光束沿着同步路径传输及其相位匹配时，波峰值的空间位置也匹配并将结合创建较大的总振幅。当光束为反相位（180°位移）时，其叠加会导致在所有峰值的消减效应，导致结合的振幅降低。这些效应被分别称为建设性和破坏性的干涉。

光的波长和入射角通常是的，折射率和层厚度则可以有所不同以优化性能。上述的任何更改将会影响镀膜内光线的路径长度，并将在光透射时改变相位值。这种效应可简单地通过单层增透膜例子说明。当光传输穿过系统时，在镀膜任一侧的两个接口指数更改处将出现反射。为了尽量减少反射，我们希望它们在个接口重组时，这两个反射部分具有180°的相位移。这个相位差异直接对应于aλ/2位移的正弦波，它可通过将层的光学厚度设置为λ/4获得良好实现。

磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高?

磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高？ 这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。 通常在健身过程中，经过加速的入射离子轰击靶材阴极表面的时候，会产生电子发射，而这些在阴极表面产生的电子开始向阳极加速进入负辉光区，和中性气体原子进行碰撞，产生的自持的辉光放电所需离子。电子在平均只有程随着电子能量的增大而增大，随着气压的增大而减小，特别是在远离阴极的地方产生，它们的热壁损失也是非常大的，这主要是因为其离化效率低。 因此可以加上一平行阴极表面的磁场就能够将初始电子限制在阴极范围内，能够有效的增加气体原子的梨花效率，从而提高磁控溅射镀膜设备的溅射效率。