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真空镀膜机磁流体密封组件的安装

真空镀膜机磁流体密封组件的安装与使用:密封组件安装与使用时应注意注意被装的密封组件与轴的同轴度要求、磁流体的注入量应适当、安装前既应对组件进行必要的真空清洗处理、密封组件泄漏时检查：

1、注意被装的密封组件与轴的同轴度要求，借以保证密封间隙具有较小的偏心量。

2、磁流体的注入量应适当，在保证各级密封间隙中具有足够量的前提下，不可过多地注入磁流体，以防抽空时多余的磁流体进入真空室内，污染真空室。

3、安装前既应对组件进行必要的真空清洗处理，又应注意防止乙醇等清洗剂滴入磁流体密封组件内，以免引起密封组件的失效。

4、如发现密封组件泄漏时应从如下几点进行查找：a、磁流体是否失效；b、连接法兰与组件内静密封圈是否受到损坏；c、极齿齿型是否与转轴接触产生干摩擦；d、转轴与密封组件是否连接不当产生同轴度移位；e、磁铁是否退磁等。

真空镀膜机的阴极电弧技术

真空镀膜机的阴极电弧技术是利用真空环境下的弧光放电，使固体阴极靶材蒸发、离化并通过等离子体的强化作用，飞向阳极基体表面沉积成膜的技术。正因为如此，阴极电弧技术具有极高的沉积速率。

在含有惰性气体或反应气体的真空环境下沉积在基体表面，具有高能量的离子束对于提高膜基结合力和打乱膜的柱状晶结构是非常有利的，从而也可大幅度改善膜的组织结构和力学性能。目前，各薄膜设备制造商通过对成膜原理和工艺的研究采用各种不同的措施来减少“液滴”的产生。

其中BAI1200、RCS是采用圆形平面阴极源技术和辐射加热技术,可进行快速镀膜生产。利用该工艺制备的TiAlN可增强加工工具切削刃的稳定性，并使干切削加工成为可能。

什么是真空镀膜技术？

所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。