镀膜设备 至成镀膜设备量身订制 镀金真空电镀设备

有油真空系统基本是以油扩散泵为主泵，前级泵采用机械泵或者罗茨泵。我们知道，油扩散泵的压力方位比较大，同时抽气速率非常的高，能够达到每秒十几万升。其工作能力在业内是数一数二的，这也得益于其具有良好的性能。从优点上来讲，有油真空系统工作可靠，没有振动，没有噪音，寿命长，维护建档透支费用低，是很多厂家都喜欢使用的。但是其缺点也非常的明显，就是会形成污染源，大规格泵在这方面更加的严重。

真空镀膜机是在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。获得价廉物美的塑料件表面装饰的理想设备，任意底色的塑料经车灯镀膜机后皆可镀成金属薄膜、七彩膜、仿金膜等，具有提高产品档次、外观更显华贵作用。广泛应用于塑料（ABS、APS、PU、PS、PP、PVC）、尼龙、陶瓷、树脂、玻璃等材料的玩具、饰物、工艺品、手机壳、电子产品、灯饰配件、化妆包装等行业。

真空镀膜机技术中的磁控溅射镀膜优势所在镀膜技能商品技能特色

据调查显示，对于沉积速率，真空镀膜机技术中的磁控溅射镀膜运用效果很好。有项研究就是对平衡磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜进行各种对比。在这两者之前，对其成膜的沉积速率的不同作出了实验研究。

在实验中，通过是平衡磁控溅射的基础上增加附加的线圈来控制磁场的变化，形成非平衡磁控溅射条件，这种附加线圈可以改变磁场电流，调整在整个靶材表面所存在的磁场状况，从而使其产生的离子密度更高，在研究数据中显示，当离子密度提高，成膜的沉积速率也相应提高，通过这种调整电流的方式，可以提高磁控溅射镀膜时的沉积速率。

把靶材与基底之间的距离改变，当距离越大，沉积速率就越低，相反就越高，所以要设定好靶材与基底的距离，距离大了，离子随着磁场所产生的电流沉积到基底上的时间就长了，在此时间内受到真空镀膜设备中的气体散射的影响就多了，离子密度相对降低，距离短就受影响少，离子密度就高，但不是越短越好的，太短距离就相对减少成膜的面积，所以这个距离需要拿捏好，可以提高磁控溅射镀膜时的沉积速率。从上述的表述我们可以知道，磁控溅射镀膜机的技术还是十分有效的